Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 1991
Yvette Heyd : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.in2p3.fr/in2p3-00015911
Soumis le : mercredi 31 mai 2000-14:27:47
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00015911 , version 1
Citer
T. Heiser, A. Mesli. How far does the charge state affect the iron behavior in silicon?. Applied Physics Letters, 1991, 58, pp.2240-2242. ⟨in2p3-00015911⟩
Collections
4
Consultations
0
Téléchargements