Laser-projection-patterned etching of GaAs in a chlorine atmosphere - Cancéropôle du Grand Est Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 1992

Laser-projection-patterned etching of GaAs in a chlorine atmosphere

F. Foulon
  • Fonction : Auteur
M. Green
  • Fonction : Auteur
F.N. Goodall
  • Fonction : Auteur
S. de Unamuno
  • Fonction : Auteur
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Soumis le : lundi 5 juin 2000-08:27:36

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Dates et versions

in2p3-00015962 , version 1 (05-06-2000)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00015962 , version 1

Citer

F. Foulon, M. Green, F.N. Goodall, S. de Unamuno. Laser-projection-patterned etching of GaAs in a chlorine atmosphere. Journal of Applied Physics, 1992, 71, pp.2898-2907. ⟨in2p3-00015962⟩

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