Article Dans Une Revue
Applied Surface Science
Année : 1992
Yvette Heyd : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.in2p3.fr/in2p3-00015969
Soumis le : lundi 5 juin 2000-09:49:17
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-14:58:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00015969 , version 1
Citer
M. Elliq, E. Fogarassy, C. Fuchs, J.P. Stoquert, S. de Unamuno, et al.. One-step Growth of Polycrystalline Silicon thin Films at Low-temperature by ARF Excimer Laser-induced Photo-CVD. Applied Surface Science, 1992, 54, pp.35-40. ⟨in2p3-00015969⟩
Collections
4
Consultations
0
Téléchargements