Thin films of vanadium oxide grown on vanadium metal: oxidation conditions to produce V2O5 films for Li-intercalation applications and characterisation by XPS, AFM, RBS/NRA - Couches nanométriques : formation, interfaces, défauts Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Interface Analysis Année : 2006

Thin films of vanadium oxide grown on vanadium metal: oxidation conditions to produce V2O5 films for Li-intercalation applications and characterisation by XPS, AFM, RBS/NRA

R. Lindström
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V. Maurice
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S. Zanna
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L. Klein
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H. Groult
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Liquides Ioniques et Interfaces Chargées
L. Perrigaud
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Liquides Ioniques et Interfaces Chargées
C. Cohen
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P. Marcus

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Chimie-Physique [physics.chem-ph]

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https://hal.science/hal-00165176

Soumis le : mercredi 25 juillet 2007-09:49:38

Dernière modification le : lundi 29 janvier 2024-16:08:31

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Dates et versions

hal-00165176 , version 1 (25-07-2007)

Identifiants

Citer

R. Lindström, V. Maurice, S. Zanna, L. Klein, H. Groult, et al.. Thin films of vanadium oxide grown on vanadium metal: oxidation conditions to produce V2O5 films for Li-intercalation applications and characterisation by XPS, AFM, RBS/NRA. Surface and Interface Analysis, 2006, pp.38(1) (2006) 6-18. ⟨10.1002/sia.2141⟩. ⟨hal-00165176⟩

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