Article Dans Une Revue
Electrochimica Acta
Année : 2006
Henri Groult : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00165178
Soumis le : mercredi 25 juillet 2007-10:03:53
Dernière modification le : lundi 29 janvier 2024-16:08:31
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00165178 , version 1
- DOI : 10.1016/j.electacta.2006.01.049
Citer
R. Lindström, V. Maurice, H. Groult, L. Perrigaud, S. Zanna, et al.. Li-intercalation behaviour of vanadium oxide thin film prepared by thermal oxidation of vanadium metal. Electrochimica Acta, 2006, pp.51 (2006) 5001-5011. ⟨10.1016/j.electacta.2006.01.049⟩. ⟨hal-00165178⟩
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