TiOx (x ranging from 1.5 to 2) films grown by pulsed-laser deposition for transparent PN homojunctions - Couches nanométriques : formation, interfaces, défauts Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

TiOx (x ranging from 1.5 to 2) films grown by pulsed-laser deposition for transparent PN homojunctions

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Eric Millon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00494412

Soumis le : mercredi 23 juin 2010-10:48:43

Dernière modification le : mercredi 12 avril 2023-09:43:29

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00494412 , version 1 (23-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00494412 , version 1

Citer

Emmanuel Le Boulbar, Jacky Mathias, Eric Millon, Chantal Boulmer-Leborgne, Jacques Perriere, et al.. TiOx (x ranging from 1.5 to 2) films grown by pulsed-laser deposition for transparent PN homojunctions. E-MRS 2010 Spring Meeting, Jun 2010, Strasbourg, France. ⟨hal-00494412⟩

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