Article Dans Une Revue
Journal of Nuclear Materials
Année : 1997
Ian Vickridge : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01513005
Soumis le : lundi 24 avril 2017-14:56:28
Dernière modification le : mercredi 12 avril 2023-09:47:55
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01513005 , version 1
- DOI : 10.1016/S0022-3115(96)00726-X
Citer
P.W Gilberd, P.B Johnson, I.C Vickridge, A.C Wismayer. TEM and IBA study of the thermal oxidation of V following high dose He implantation. Journal of Nuclear Materials, 1997, 244 (1), pp.51 - 58. ⟨10.1016/S0022-3115(96)00726-X⟩. ⟨hal-01513005⟩
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