Damage profiles and annealing of Si(B) implants - Cancéropôle du Grand Est Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1976

Damage profiles and annealing of Si(B) implants

R. Prisslinger
  • Fonction : Auteur
S. Kalbitzer
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00019492 , version 1 (31-05-2001)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00019492 , version 1

Citer

J.J. Grob, P. Siffert, R. Prisslinger, S. Kalbitzer. Damage profiles and annealing of Si(B) implants. International Conference On Applications Of Ion Beams To Materials, Sep 1975, Warwick, United Kingdom. pp.24-30. ⟨in2p3-00019492⟩
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